(우수성과) 무결점 대 면적 그래핀 합성 기술 개발
작성자
장효정
등록일 2018.02.20
조회수 2,649
무결점 대 면적 그래핀 합성 기술 개발
- 전사공정 없이 낮은 온도에서 그래핀 합성 -
□ 국내 연구진이 그래핀을 가공할 때 필수적이던 전사공정을 생략하여 새로운 고품질 대면적 그래핀 합성 기술을 개발했다. 윤순길 교수(충남대학교) 연구팀이 타이타늄을 이용하여 저온에서의 신개념 그래핀 합성 기술을 보고했다고 한국연구재단(이사장 조무제)은 밝혔다.
□ 윤순길 교수는 “이 연구는 기존 그래핀 소재의 단점을 보완한 새로운 개념의 무결점, 대면적 그래핀을 직접적으로 성장시키는 제조기술을 개발한 것”이라며, “그래핀이 투명하고 유연한 전자소자에 응용될 뿐만 아니라 기존의 금, 구리 등 금속 전극을 대체할 수 있도록 기여할 것이다“라고 연구의 의의를 설명했다.
